无锡伟测半导体科技有限公司

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所以他们只能在低端继续，占据一定的市场份额。如果要进入高端市场，国内最先进的光刻机技术应该是中科院光电所的技术成果。2018年11月29日，新华社报道，国家重大科研装备研制项目“超分辨率光刻装备研制”29日通过验收。据悉，该光刻机由中科院光电技术研究所研制，光刻分辨率达到22纳米。结合双曝光技术，未来还可以用来制造10纳米的芯片。

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